郑科探   小型蒸镀仪  高蒸发镀膜方式

       郑科探小型蒸镀仪（KT-Z1650CVD)）是通过高温蒸发的方式镀膜。支持蒸镀金属和有机物。目前已测试的金属有金、银、铜、铬、镍、铝，有机物(石蜡)。蒸镀仪增加膜厚监测需要用到带有屏蔽温度的陶瓷坩埚(原因是高温会影响膜厚仪的测试结果)。以下是对一些特殊金属镀膜要求。

总结：蒸发镀膜的应用特点

1、金银铜

    这类金属与钨的互溶性极差，化学惰性强，且液态金属状态下，会像水珠在荷叶上一样聚成球状，不会浸润到钨舟内部，所以这几种金属可以用普通的钨舟测试。

2、金属铝

    液态铝对钨舟的浸润性很好，铝液会迅速铺展并覆盖在钨的表面上，为后续的反应提供了巨大的接触面积，因此镀铝最好使用陶瓷或者石英干锅。

3.金属铬和金属镍

    金属铬和镍的熔点较高，所以需要用镍缠绕在钨棒上面，或者用专门的铬钨棒。通过改变电阻率来增加温度，因铬和镍的温度低于金属钨，所以会被蒸发掉。

注、如果蒸镀仪选配有膜厚仪，因温度较高会影响晶振精度，推荐使用带有屏蔽温度的蒸发舟，

保证膜厚仪检测尽可能准确。

蒸发镀膜的优缺点

优点：

操作简单：原理和设备相对简单，易于理解和操作。

成膜速率高：沉积速度很快，适合制备较厚的薄膜。

薄膜纯度较高：在高真空下进行，污染少，

特别是电子束蒸发，能避免坩埚污染。

成膜质量好：形成的薄膜通常致密、均匀、光滑

缺点：

台阶覆盖性差：由于粒子是直线飞行，对于具有复杂三维结构或深孔、沟槽的基片，无法实现均匀覆盖，阴影效应明显。这是其与溅射镀膜相比的最大劣势。

合金成分不易控制：如果蒸发的是合金，由于不同元素的饱和蒸气压不同，蒸发速率也不同，会导致薄膜成分与靶材成分有差异（分馏现象）。

对高熔点材料有限制：电阻加热法难以蒸发钨、钼等高熔点材料（但电子束蒸发可以解决）。

薄膜结合力相对较弱：与溅射、离子镀等相比，蒸发粒子的能量较低，与基片的结合力有时稍弱。