小型蒸镀仪

KT-Z1650CVD是一款小型台式蒸发功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。

   通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

操作使用：

使用前：检查电路，真空计是否正常，样品台及挡板转动是否正常，玻璃罩是否破损，钨舟螺丝是否拧紧

1、安装钨舟 ，放置靶材，一般3-4粒或1g即可，放置时尽量放置在一块，方便融化

2、安装基片，压片压紧，或者定做掩膜版，更加方便

3、抽真空，用机械泵或分子泵，机械泵一般抽5分钟或抽至1pa以下，分子抽半个小时或小于10*10-3即可。加热后真空度示数会上升，此为正常现象

4、挡板功能：挡板，有打开，停止、复位功能，主要作用是将靶材表面污染物蒸发至挡板上，起到除杂的作用

5、加热镀膜。分为手动模式和自动模式

手动模式：主要用于测试阶段，用于测试融化及镀膜所需要的电流及时间，测试完毕后可将成熟的方案保存至配方，在自动模式下调用，达到自动镀膜流程

自动模式即将手动模式所测得合适的数据

测试时间：

电流调节方法 三种。直接设置数值，点击刻度尺，或者点击+-号

例如更换为铜靶材颗粒，用90A电流需要20s融化，可记录为测试时间30s（增加10s为除杂时间）电流90A，镀膜电流100A，镀膜60s可达到所要求的质量，可记录镀膜电流为100A时间为60s。，将之填入自动模式的配方中即可

自动模式：先调用合适的配方，待真空达到合适真空度，点击开始运行，设备会自动进行挡板复位，加热融化，挡板打开，镀膜，停止功能，待温度降下来之后关泵开盖即可

6、等待降温、打开腔体

注意 刚结束时腔内温度较高，需等待一段时间，大概1-3分钟再开盖

日常维护：

日常可抽真空放置，放置墙体内部污染或者靶材氧化

玻璃罩可以用草酸清洗，需做好防护措施

金属部分可用细砂纸打磨

钨舟根据不同的靶材选用不同钨舟型号

例如   金银铜可选钨舟

铝 和镍可需要选陶瓷坩埚，原因高温下会产生合金相，与金属钨反应，肉眼可见效果类似于金属腐蚀